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循環(huán)伏安法數(shù)據(jù)分析教程

2018-7-23 10:14:06??????點擊:
1 電解池
電解池是發(fā)生反應(yīng)的場所,它能夠?qū)㈦娔苻D(zhuǎn)化為化學(xué)能的一個裝置,由外加電源,電解質(zhì)溶液,參與工作的電極構(gòu)成。
陰極:得電子,還原反應(yīng),該電極與電源負極相連接。
陽極:失電子,發(fā)生氧化反應(yīng),與電源正極相連。
電解池中,電流由陽極流向陰極。

2 循環(huán)伏安法
1)若電極反應(yīng)為O+e-→R,反應(yīng)前溶液中只含有反應(yīng)粒子O,且O、R在溶液均可溶,控制掃描起始電勢從比體系標(biāo)準(zhǔn)平衡電勢(φ平)正得多的起始電勢(φi)處開始勢作正向電掃描,電流響應(yīng)曲線則如圖0所示。
循環(huán)伏安法數(shù)據(jù)分析教程
圖0 CV掃描電流響應(yīng)曲線

2)當(dāng)電極電勢逐漸負移到(φ平)附近時,O開始在電極上還原,并有i法拉第通過。由于電勢越來越負,電極表面反應(yīng)物O的濃度逐漸下降,因此向電極表面的流量和電流就增加。當(dāng)O的表面濃度下降到近于零,電流也增加到最大值Ipc,然后電流逐漸下降。當(dāng)電勢達到(φr)后,又改為反向掃描。

3)隨著電極電勢逐漸變正,電極附近可氧化的R粒子的濃度較大,在電勢接近并通過(φ平)時,表面上的電化學(xué)平衡應(yīng)當(dāng)向著越來越有利于生成R的方向發(fā)展。于是R開始被氧化,并且電流增大到峰值氧化電流ipa,隨后又由于R的顯著消耗而引起電流衰降。整個曲線稱為“循環(huán)伏安曲線”。

3 經(jīng)典三電極體系
經(jīng)典三電極體系由工作電極(WE)、對電極(CE)、參比電極(RE)組成。在電化學(xué)測試過程中,始終以工作電極為研究電極。
其電路原理如圖1,附CV圖(圖2):掃描范圍0.35-0.7V,起始電位0.4V。
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圖1 三電極體系循環(huán)伏安法工作原理圖
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圖2 不同掃描速度對蘆丁的循環(huán)伏安掃描圖
u(1?7) = 1,3,10,20,50,100,200 mV·s-1

圖2所示CV掃描結(jié)果為研究電極上產(chǎn)生的電流隨掃描速率的變化及電位變化情況圖。
1)橫坐標(biāo)E(電位)為圖1中電壓表(電化學(xué)工作站)所測,即
E=P(WE)-P(RE)
所有的電位數(shù)值都是相對于氫離子的電位值,規(guī)定在標(biāo)準(zhǔn)情況下,氫離子的電位為0。當(dāng)恒電位儀向工作電極提供負的電位時,其電源連接情況如圖1所示,即工作電極與電源的負極相連,作為陰極工作發(fā)生還原反應(yīng);反之則作為陽極發(fā)生氧化反應(yīng)。

2)縱坐標(biāo)所示電流為工作電極上通過的電流,電流為正(流出電極表面)則有電子流入電極槲皮素失電子發(fā)生氧化反應(yīng);電流為負則電子流出電極,槲皮素得電子發(fā)生還原反應(yīng)。各伏安峰的峰電流隨掃速的加快而增大,陰極峰與陽極峰電流之比與掃速關(guān)系不大。

3)數(shù)據(jù)分析電壓從負到正可以看作是正掃為陽極氧化過程,對應(yīng)氧化峰;反之為負掃陰極還原過程,對應(yīng)還原峰。

陰極反應(yīng)的電流稱為陰極電流,對應(yīng)還原峰;陽極反應(yīng)的電流稱為陽極電流,對應(yīng)氧化峰。一般國內(nèi)規(guī)定陰極電流用正值陽極用負值,國外很多文獻反之。通常,氧化峰位于較正的電位而還原峰位于較負的電位,這是極化作用的結(jié)果。
1)還原峰(向上的峰)峰電位越正峰電流越大,越容易還原;氧化峰(向下的峰)峰電位越負,峰電流越大,越容易氧化。
2)判斷電極反應(yīng)的可逆程度
Ipa=Ipc                       (Ipa,Ipc正比于V1/2)
φpa-φpc≈60 mV             (25℃條件下)

3)標(biāo)準(zhǔn)電極電位等于兩個峰電位之和的1/2  即Eθ=(Epa+Epc)/2
4)掃描速度:在CV測試中,掃描速度對峰電位沒有影響,但掃速加快有利于增大峰電流強度。
5)峰電位:多圈掃描發(fā)生峰電位偏移,反應(yīng)可逆性差。
6)活化能計算:電化學(xué)方法計算活化能一般使用不同溫度下循環(huán)伏安掃描曲線來實現(xiàn),溫度與活化能的關(guān)系為:

Lnj=const-Ea/RT

其中
j——某一電位下的電流密度,等于該點位下的電流除以電極表面積;
R——理想氣體常數(shù),R=8.314;
T——絕對溫度。
7)計算電極面積和擴散系數(shù)
其中
n——電子交換數(shù)(需由產(chǎn)物分析確定);
A——電極有效面積;
D——反應(yīng)物的擴散系數(shù);
C——反應(yīng)物(氧化態(tài))的本體濃度;
 v——掃描速度。

當(dāng)電極有效面積不變時,上式簡化為:
ip=KCV0.5

首先假設(shè)是三電極體系,三電極體系一般用于含有液/固界面的體系,或者通俗說含有液體的體系

1. 電化學(xué)工作站控 制的電位到底是個什么電位?
答: 他控制的表面上是工作電極相對于參比電極的電位差,本質(zhì)上是電極和溶液形成的界面的界面電勢差

2.為什么要參比電極?
答:我們知道了工作電極相對于參比電極的電勢差,我們也就間接知道了電極和溶液之間界面的電位差。換言之,只要我們控制了工作電極相對于參比電極的電勢差,我們也就間接控制了電極和溶液之間界面的電勢差。

3. 為什么需要對電極?
答:有了參比電極,我們就可以測量/控制工作電極和溶液的界面電勢差。工作電極和參比電極構(gòu)成電壓回路,儀器工作的時候不斷測量這兩個電極的電勢差,如果大于/小于設(shè)定值,儀器就提升/降低對電極的輸出電壓,通過強制增大/減小流過液/固界面的電流而改變界面電勢差,直到測量值等于設(shè)定值為止,這個過程完全由硬件在瞬間完成。這就是電化學(xué)工作站的原理(恒電流模式也是類似的)。順便說下,剛才提到的對電極會提升或者降低輸出電壓,但他不能無限度地提升/降低,對電極輸出電壓的上下限就是所謂的槽壓。